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課程名稱 |
半導體製程概論
Introduction to Semiconductor Processing |
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開課學期 |
101-2 |
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授課對象 |
學程 光機電系統學程 |
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授課教師 |
徐振哲 |
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課號 |
ChemE5004 |
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課程識別碼 |
524 U0280 |
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班次 |
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學分 |
3 |
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全/半年 |
半年 |
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必/選修 |
選修 |
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上課時間 |
星期一7,8,9(14:20~17:20) |
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上課地點 |
化工一 |
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備註 |
顯示器設備領域。
限學士班四年級以上
總人數上限：90人 |
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Ceiba 課程網頁 |
http://ceiba.ntu.edu.tw/1012semiprocessing |
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課程簡介影片 |
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核心能力關聯 |
核心能力與課程規劃關聯圖 |
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課程大綱
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為確保您我的權利,請尊重智慧財產權及不得非法影印
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課程概述 |
說明半導體元件基礎物理性質與運作原理，簡介積體電路製程內容 |
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課程目標 |
1. 熟悉半導體基礎物理性質
2. 初步瞭解半導體元件運作原理
3. 熟悉積體電路製程單元內容
4. 運用輸送現象, 化工動力與熱力學於積體電路製程單元之分析
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課程要求 |
先修科目或先備能力：輸送現象 |
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預期每週課後學習時數 |
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Office Hours |
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指定閱讀 |
TBD |
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參考書目 |
教科書1 半導體製程技術導論，Hong Xiao著，羅正忠、張鼎張譯，台灣培生教育出版股份有限公司
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評量方式
(僅供參考) |
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No. |
項目 |
百分比 |
說明 |
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1. |
作業 |
30% |
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2. |
期中考 |
30% |
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3. |
期末考 |
40% |
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週次 |
日期 |
單元主題 |
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第1週 |
02/18 |
Introduction |
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第2週 |
2/25 |
Semiconductor Physics |
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第5週 |
3/18/2013 |
Semiconductor Physics |
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第7週 |
4/1 |
Semiconductor Physics |
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第8週 |
4/8 |
Silicon Wafers |
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第10週 |
4/22 |
Oxidation and Diffusion |
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第12週 |
5/6/2013 |
Lithography |
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第13週 |
5/13/2013 |
Plasma and Vacuum |
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第15週 |
5/27 |
Ion Implantation and Etching |
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第16週 |
6/3 |
CVD, Metallization |
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第17週 |
6/10 |
CMP, Special Topic |
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